半导体材料清洗机有哪些呢？

1 用于锗片的清洗，也可以用于其他晶片的清洗腐蚀

　　2工艺说明:手动方式实现放件，取件，槽体间传送件。

　　3 设备形式: 室内放置型。

　　4 腐蚀工艺自动补药液保证了工艺槽在运行过程中浓度的稳定性

　　5 工艺参数（温度，时间，DIW水清洗模式、时间可调）手动由触摸屏界面可设定

　　6 机台前方为清洗工作区域，机台后上方为电器和气路布置区域，后下方为液路布置区域。

　　7 药液供给及补液方式: 分体式CDS自动供液系统

　　8 DI槽配有在线式水质检测装置

　　9 配有分体式废液回收系统

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