半导体封装需要应用等离子清洗机的3个环节

半导体封装离不开等离子清洗机，而且现今环境下，5g市场的快速发展，对半导体的要求越来越高，传统的清洗工艺满足不了要求。不少环节都必须使用等离子清洗才能够达到要求。对于半导体的封装，目前有下面3个环节离不开等离子清洗机。

　　一个环节是芯片和基板进行粘接前需要用等离子清洗。

　　芯片基材粘接

　　芯片和基板都是高分子材料，材料表面通常呈现为疏水性和惰性特征，其表面粘接性能较差，粘接过程中界面容易产生空隙，给密封封装后的芯片带来很大的隐患，对芯片与封装基板的表面进行等离子处理能有效增加其表面活性，极大的改善粘接环氧树脂在其表面的流动性，提高芯片和封装基板的粘结浸润性，减少芯片与基板的分层，改善热传导能力，提高1C封装的可靠性、稳定性，增加产品的寿命。

　　二个环节是引线框架的处理

　　芯片引线框架

　　微电子封装领域采用引线框架的塑封形式，仍占到80%以上，其主要采用导热性、导电性、加工性能良好的铜合金材料作为引线框架，铜的氧化物与其它一些有机污染物会造成密封模塑与铜引线框架的分层，造成封装后密封性能变差与慢性渗气现象，同时也会影响芯片的粘接和引线键合质量，确保引线框架的超洁净是保证封装可靠性与良率的关键，经等离子体处理可达到引线框架表面超净化和活化的效果，成品良率比传统的湿法清洗会极大的提高，并且免除了废水排放，降低化学药水采购成本。

　　三个环节是优化引线键合（打线）

　　芯片引线键合

　　集成电路引线键合的质量对微电子器件的可靠性有决定性影响，键合区必须无污染物并具有良好的键合特性。污染物的存在，如氧化物、有机残渣等都会严重削弱引线键合的拉力值。传统的湿法清洗对键合区的污染物去除不彻底或者不能去除，而采用等离子体清洗能有效去除键合区的表面沾污并使其表面活化，能明显提高引线的键合拉力，极大的提高封装器件的可靠性

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