半导体水基清洗剂主要用于清洗表面沾污有石蜡、油脂和油脂类高分子化合物以及表面沾污有金属原子和金属离子等。在半导体分立器件和中、小规模集成电路中能够完全代替传统半导体清洗工艺中使用的清洗液。 　　1、…

水清洗工艺设备主要由制纯水、清洗、废水处理三类设备组成。 　　水清洗设备分为以下三类：批次式水清洗设备，在一个清洗室内完成清洗、漂洗、干燥等步骤，适合中小批量和多品种、小批量生产使用；多槽式清洗设…

过炉治具可以用治具清洗机进行清洗， 治具清洗机 适用于夹具、冷凝器、滤网，同样也适用于军工、医疗精密电子五金等类似产品及器具的清洗。 治具清洗机 特点： 　　1、保障彻底的清洗效果,使您的…

水清洗工艺设备主要由制纯水、清洗、废水处理三类设备组成。 pcba清洗机、 水清洗设备分为以下三类：批次式水清洗设备，在一个清洗室内完成清洗、漂洗、干燥等步骤，适合中小批量和多品种、小批量生产…

由于清洗要求的逐渐提高，半导体清洗设备的使用也越来越多，为了能让设备与需求更加相符，无损清洗的理念被推出。也就是说，利用半导体清洗设备清洗的时候，不仅要体现出良好的清洗效果，还要更好的保护好清洁表面…

一般运用半导体清洗设备清洗作业时，要了解半导体清洗机特性才调抵达非常好的清洗作用。半导体清洗设备的清洗进程包含四个基本要素，这四个要素分别是：污染物、介质、基体和清洗作用力。 　　可是咱们注重的疑…

在半导体器件和集成电路生产中，化学清洗主要包括三个方面： 　　一是半导体材料的清洗,这是化学清洗的重点。半导体材料主要有锗、硅和砷化镓。目前，碓器件最多、产量最大、应用最广，所以硅材料的清洗是化学清…